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半导体晶圆加热盘

半导体加热组件

半导体晶圆加热盘

瞄准薄膜沉积与刻蚀设备的晶圆加热组件,支持多种真空焊接工艺。

PRODUCT FEATURES

产品特点

  1. 01

    采用摩擦焊、真空钎焊或真空电子束焊接

  2. 02

    热场均匀性高

  3. 03

    面向进口替代与设备适配开发

APPLICATION

应用场景

适用于薄膜沉积、刻蚀等半导体设备。

SPECIFICATIONS

产品参数

以下内容来自公司画册公开资料;具体规格以项目图纸与技术确认结果为准。

温度均匀性
±0.5%
工艺能力
摩擦焊 / 真空钎焊 / 电子束焊
定制内容
晶圆尺寸、腔体结构及接口

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